Polvere di boro cristallino 5N 6N per semiconduttori
Il boro cristallino è un importante additivo funzionale inorganico in ambito industriale. Si tratta di boro elementare in fase β con struttura cristallina icosaedrica rombica. Possiede una forte inerzia chimica, un’elevata durezza meccanica e un alto punto di fusione. Il boro cristallino si presenta sia in forma granulare che in polvere, e ha un colore grigio-nero. Trova ampio impiego in settori quali i semiconduttori, l’ottica, le batterie termiche e i materiali ceramici in polvere.
La granulometria standard della polvere di boro cristallino da noi fornita è di 15-60 μm; la dimensione dei grani convenzionale delle particelle di boro cristallino è di 1-10 mm (dimensioni dei grani speciali possono essere personalizzate in base alle esigenze del cliente), generalmente suddivisa in cinque specifiche 2N, 3N, 4N, 5N, 6N a seconda della purezza.
Indice dei prodotti:
| Formula molecolare: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Densità | 2,3 g/cm³ |
| Fase | fase β-B |
| Punto di fusione | 2300 °C |
| Punto di ebollizione | 2550 °C |
| Durezza Mohs | >9 |
| massa atomica relativa | 10.81 |
| Isotopi stabili | 10 B、11 B |
| Colore | Grigio scuro, nero |
Composizione chimica:
| Chimica | 2N BORO CRISTALLINO | 3N BORO CRISTALLINO | 4N BORO CRISTALLINO | 5N BORO CRISTALLINO | 6N BORO CRISTALLINO |
| B | ≥99% | ≥99,9% | ≥99,99% | ≥99,999% | ≥99,9999% |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| A | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| A | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Con | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Pb | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| Quello | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| COME | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| IN | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Dimensioni e confezione tipiche:
| CONTENUTO DI BORO | DIMENSIONI TIPICHE | Pacchetto |
| 99 | 1-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm | 1 kg/5 kg Confezionato in sacchetto di alluminio sottovuoto (la nanopolvere è sigillata, non sottovuoto). |
| 99,9 | -200Mesh, 0-10μm, 1-10mm | tipo in polvere: 1 kg/5 kg/ confezionato in sacchetto di alluminio sottovuoto, Tipo granulare: 50 g/500 g/1000 g confezionati in flacone di PP, con protezione di gas inerte. |
| 99,99 | -200 mesh, 1-10 mm | 50 g/100 g Confezionato in flacone di PP, riempito con gas inerte sigillato. |
| 99.999 | ||
| 99,9999 |
Applicazione:
- Applicazioni del boro cristallino nell’industria nucleare:
Il boro cristallino svolge un ruolo cruciale nel campo dell’energia nucleare. Può essere utilizzato come materiale di controllo della neutralizzazione nei reattori nucleari, principalmente per compensare e regolare la reattività di neutralizzazione e per facilitare gli arresti di emergenza, mantenendo così un funzionamento stabile del reattore. Il boro cristallino non solo presenta un elevato cutoff di assorbimento di neutralizzazione, ma anche un ampio intervallo di assorbimento di energia di neutralizzazione, riducendo o regolando efficacemente il flusso di neutralizzazione generato dall’energia nucleare, garantendo in tal modo la sicurezza del sistema energetico nucleare.
- Applicazioni del boro cristallino nella produzione di semiconduttori:
Il boro cristallino è ampiamente utilizzato anche nell’industria dei semiconduttori. Come drogante di tipo p, il boro cristallino può essere impiegato per modificare la conduttività dei materiali semiconduttori. Dopando il silicio con boro cristallino, è possibile alterarne le proprietà di conduttività, consentendo così la produzione di dispositivi semiconduttori con diverse caratteristiche di conduttività, come diodi e transistor a effetto di campo. Inoltre, il boro cristallino può essere utilizzato come materia prima per la crescita di materiali semiconduttori monocristallini di lunga durata. I monocristalli di silicio drogati con boro possono essere cresciuti mediante un metodo di soffiaggio a fusione per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni.
La polvere di boro cristallino con purezza del 99,9% viene utilizzata nella produzione di wafer di silicio per celle solari come drogante del substrato per wafer di silicio di tipo P e come diffusore dell’emettitore di boro per wafer di silicio di tipo N. Polveri di boro ad alta purezza di 5N e 6N possono essere utilizzate come droganti per semiconduttori di tipo P per modificarne la conduttività e sono impiegate nella produzione di wafer di silicio ad alta purezza.
- Applicazioni del boro cristallino in ottica:
Il boro cristallino trova inoltre ampie applicazioni in ottica. Grazie alle sue eccellenti proprietà ottiche non lineari, il boro cristallino può svolgere funzioni quali la modulazione della luce, la scansione di frequenza e la duplicazione di frequenza. Pertanto, il boro cristallino è ampiamente utilizzato in dispositivi ottici, tra cui modulatori ottici, pettini di frequenza ottica e laser. Inoltre, il boro cristallino può essere impiegato anche come mezzo di guadagno nei laser a infrarossi, esibendo un’elevata soglia di emissione e un ampio intervallo spettrale di eccitazione.
- Nei materiali ceramici ad alta durezza:
Il boro cristallino può essere utilizzato anche per preparare materiali ad alta durezza, come il carburo di boro (B4C) e i composti di boro grafitico (Bg). Il carburo di boro è un materiale ceramico estremamente duro con eccellente resistenza all’usura e alle alte temperature, ed è quindi ampiamente utilizzato nella produzione di giubbotti antiproiettile, utensili resistenti, abrasivi e ceramiche resistenti all’usura. I composti di boro grafitico sono materiali con una struttura simile alla grafite, che presentano un’elevata conduttività elettrica e stabilità termica, e possono essere utilizzati per preparare leganti conduttivi ad alte prestazioni, materiali termicamente conduttivi e materiali d’attrito.
- Applicazioni del boro cristallino nelle batterie termiche:
Le batterie termiche sono batterie di accumulo monofase ad attivazione termica che utilizzano sali fusi come elettrolita. Presentano vantaggi quali dimensioni ridotte, peso contenuto, lunga durata di conservazione, funzionamento senza manutenzione, attivazione rapida e affidabile e un ampio intervallo di temperature operative, e sono ampiamente utilizzate nei dispositivi di accensione di alcune armi strategiche e convenzionali. Il materiale anodico di una batteria termica gioca un ruolo decisivo nella sua capacità, volume e potenza erogata. I materiali anodici delle batterie termiche si sono evoluti dai materiali iniziali a base di magnesio e calcio agli attuali materiali a base di litio. Tra questi, i compositi Li-B possiedono vantaggi eccezionali come elevata densità energetica, elevata potenza erogata, bassa polarizzazione, potenziale elettrochimico vicino a quello del litio puro e rimangono solidi a temperature superiori a 600 °C. Rappresentano il materiale anodico più promettente per le batterie termiche e vengono gradualmente impiegati nelle batterie termiche di fascia alta.
- Boro cristallino nell’industria militare:
Il boro cristallino può essere utilizzato per produrre materiali balistici ceramici al boro ad elevata purezza, agenti ritardanti al boro ad elevata purezza, flussi di saldatura al boro ad elevata purezza, esplosivi al boro ad elevata purezza e propellenti per razzi ad elevata purezza, ricchi di combustibile e impoveriti di ossigeno.
- Nella produzione di leghe:
Lega di rame e boro ad alta purezza, lega di titanio e boro ad alta purezza, acciaio policristallino al boro ad alta purezza, utensili superduri resistenti all’usura al boro ad alta purezza, lamiere di acciaio anticorrosivo al boro ad alta purezza, lega di nichel e boro ad alta purezza, lega di cromo e boro ad alta purezza, lega di litio-boro (un nuovo materiale per batterie), lega superconduttrice boro-magnesio.
- Applicazioni del boro cristallino nel settore aerospaziale:
La polvere di boro cristallino ad elevata purezza può essere utilizzata come materiale di rivestimento nanotecnologico. Attraverso la tecnologia di sputtering, il materiale in polvere viene depositato sulla superficie di un substrato, rendendo i componenti resistenti all’usura, alla corrosione, alle alte temperature, all’ossidazione e agli agenti atmosferici. Ciò soddisfa i requisiti dei motori in condizioni di esercizio estremamente gravose nei settori aerospaziale e aeronautico, e può anche soddisfare requisiti specifici in optoelettronica e altri campi.
